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半導體清洗采用的超純水是如何生產出來的

2024
01-24

14:00:45

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來源:萊特萊德(上海)水處理設備有限公司

半導體是指在特定溫度和電壓下,其電導率介于導體和絕緣體之間的材料,具有多種物理和電學性質。半導體的電導率與其摻雜的雜質種類、濃度和半導體晶體結構有關,在電子器件、光電器件、傳感器等領域有廣泛的應用。例如,在計算機中,半導體芯片會用于存儲數據和執行邏輯操作;在光電器件中,半導體光電二極管可以將光能轉換為電能,應用于太陽能電池、激光器、LED等器件中。

半導體材料清洗會使用到超純水,這是為了充分保障半導體的物理化學性質穩定,不受顆粒物、金屬氧化物、灰塵污垢等雜質的污染,以此來維持其良好的功能。超純水純度高,基本不含有除氫原子和氧原子之外的任何細菌、有機物、無機鹽等雜質,因而是清洗半導體的理想工具。


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采用EDI超純水設備可以生產出質量可靠穩定的超純水,該設備主要采用了反滲透+EDI+拋光混床技術,能根據不同用戶對水質的不同需求定制設計。它具有出水水質穩定、操作簡便、運行成本低、綠色環保、易于維護等優點,具體表現為:

1.采用靶向離子交換系統,可以針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除;

2.膜系統能夠實現帶電荷運行,離子遷移速度更快,脫鹽效果更優;

3.采用PLC智能化程序,能靈活進行操作,人力投入節約;

4.系統運行無污染物析出,系統內無死水;

5.采用新型均粒樹脂包填充,高頻電子極板形成強電場運行環境,大幅提高脫鹽率。

該設備能夠將水中含有的微生物、金屬離子、礦物質等成分充分去除,確保生產出的超純水純度,用于清洗半導體不會造成污染。


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